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	プリント配線板用めっき処理薬品


	半導体ウエハ対応めっき処理薬品


	電磁波シールド用めっき処理薬品

CU-BRITE VF（キューブライトVF）プロセス
CU-BRITE VF（キューブライトVF）プロセスは、ビルドアップ基板の微細配線形成・ビアフィリングを目的として開発された光沢硫酸銅めっきプロセスで、パターン及びパネルめっきいずれにも適用できます。

ビアホールの穴埋め性に優れます。（パネルめっきに最適）

スルーホールの均一電着性に優れます。

小径ビアホールを有するパターン基板での穴埋め性と粗密部の均膜性に優れます。