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 ファインライズプロセス
本プロセスはプリント基板の最外層への無電解Niめっき時に発生するブリッジを防止するプロセスで、L/S=20/20μm以下の超微細配線にも対応可能です。
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| 1. |
微細配線間のブリッジを防止。 |
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Pd除去、およびめっき析出防止、の2工程で処理。 |
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シアンやクロム等の有害物を含まない。 |
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| 4. |
銅配線に対するエッチングはほとんどない。 |
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| 5. |
長期間安定した性能を維持。 |
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スプレーでも浸漬でも使用可能。 |
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| 本プロセスでブリッジ防止処理を行った後に、通常のめっき工程に入ります。 |
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