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プリント配線板用めっき
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電子部品用めっき処理薬品
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電磁波シールド用めっき
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CU-BRITE21(キューブライト21)プロセスは、ハイアスペクトスルーホールおよびビアに優れた付き回り性を発揮すると同時に、超ハイスロー浴の欠点とされているアノードスライムの多さを解消しました。
特長
1.
優れたスローイングパワー。従来のハイスロー浴に比較して10〜20%のTPアップが可能。
(ビアホールに対しても同様)
2.
析出皮膜は延展性に富み、耐熱衝撃性に優れている。
3.
浴管理が容易で使いやすい。
4.
アノードスライムの発生が少ないため、アノードメンテナンス作業が軽減できる。
プリント配線板用めっき処理薬品
水平無電解銅めっきプロセス
| ハイアスペクトスルーホールおよびビア用プロセス |
置換金下地用無電解ニッケルプロセス
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無電解Ni-Auめっき用ブリッジ防止プロセス
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ビルドアップ基板用無電解銅めっきシステム
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ビアフィリング硫酸銅めっきプロセス
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TAB・COF・各種基材対応プロセス
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2層CCL対応エッチングプロセス
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